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自动抛光机交替抛光法你明白吗?

日期:2019-08-20点击数:1赞数:0

交替抛光法, 是将几种抛光工艺相互配合交替进行的整个抛光工艺的总称。它常用于多组分合金及工艺上对多组分合金及工艺上对抛光表面粗糙度要求高的抛光作业。例如,在电抛光某种合金制件时,有时会在制件表面形成一层严重妨碍电抛光继续进行的覆盖层,但还未到达工艺上对抛光表面粗糙度的要求。这 需要在电抛光过程中间,加入一道机械抛光,以及时除去电抛光过程中形成的覆盖层,然后再进行电抛光。这种“电抛光—机械抛光-电抛光”交替进行的整个工艺, 是交替抛光工艺的一个实例。
交替抛光法,可交替一次,也可交替多次。也不限于两种抛光工艺进行交替,必要时,可交替使用多种抛光工艺进行抛光加工,直到抛光表面粗早度达到工艺要求为止。应当指出,上述数控抛光机电抛光过程中抛光表面形成的覆盖层,不一定要用抛光作用很明显的机械抛光法除去,还可用其他似乎看不见具有抛光效果的更简单方法除去。化学浸洗法 是一个高效快速除膜法。例如,在用磷酸-硫酸-水混合电解液中,对板状钼制件进行电抛光时,制件表面会很快形成一层蓝紫色覆盖层。该层随着电抛光过程的进行会快速增厚,使电解电流迅速减小。。当电解电流减小到原调电流值得1/3~1/5或更小时,它 会基本稳定下来。这是电抛光过程几乎停止或丧失了。取出制件除去表面蓝紫色覆盖层会看到,抛光表面的粗糙度还达不到工艺要求,尚须再抛光。但若不除去钼制件表面紫色覆盖层,是无法进行电抛光的。去除这种紫色膜可用湿布团擦拭,也可用碱性(如氢氧化钠)稀水溶液浸洗数分钟除去。

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